設備簡述
爐體尺寸 |
φ1600*H1200 |
有效空間 |
φ1250*H900 |
工件最大直徑*數(shù)量 |
φ210*16 |
標準配置 |
陰極弧5個/中頻圓柱靶4對 |
工作電壓/頻率 |
380V/50Hz |
實際功率 |
70KW |
應用技術 |
ZP+ARC(選配) |
靶材數(shù)量 |
圓柱靶8個/弧靶5個 |
極限壓力 |
5.0×10-4Pa |
漏率 |
<10-3Pa.L/s |
抽氣時間 |
大氣到4X10-3 < 25分鐘 |
真空系統(tǒng) |
分子泵、羅茨泵、旋片泵 |
標準涂層效果 |
IP黑,玫瑰金,IP金,寶石藍,香檳金,炫銀,咖啡色,七彩,槍黑色,鋯金,玫瑰紅等 |
電源類型 |
脈沖偏壓電源 |
中頻磁控電源 |
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專用真空弧電源 |
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工件轉架結構 |
下轉架結構 |
真空室結構 |
立式單開門 |
生產周期 |
1.5-3.5小時/爐 |
外圍尺寸 |
L3200*W3500*H2600mm |
控制方式 |
PLC+觸摸屏 組態(tài)軟件 |
配套條件 |
循環(huán)水壓力:2-3KG/CM3 |
工業(yè)PC+PLC+觸摸屏 |
水量:10T/H |
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自己開發(fā)的鍍膜專用控制軟件 |
壓縮空氣:4-6 KG/CM3 |
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工作氣體 |
Ar、N2、O2、C2H2等 |
應用 |
裝飾鍍鍍膜 |
備注 |
真空室尺寸,外圍尺寸,設備外觀等可按客戶產品或及特殊工藝要求訂做,以上信息僅供參考。 |
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